多功能薄膜制备系统顺利落户复旦大学，溅射、蒸发、电子束制备一步到位，效率翻倍！
2024-05-2442高质量薄膜材料的制备已经成为新型材料与器件研究必不可少的部分。薄膜材料质量的好坏直接影响着研究结果和器件的最终性能。因此薄膜制备设备已成为新型材料和器件研究的重中之重。对于大多数薄膜材料，常用的制备手段有磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发、脉冲激光沉积等。这类在真空条件下采用物理方法将材料源（多数为固体）表面气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基片表面沉积具有某种特殊功能的薄膜称为物理气象沉积（PVD）。传统设备中，一种设备只具备一种薄膜的制备手段，随着研究的深入和器件的复杂化，往往一个样品需要多种制备手段才能完成。样品在不同设备中轮流进行加工制备增加了外界影响的可能性，对样品的质量和可靠性有较大影响。因此，在一种设备中实现多种制备手段成为一种有效的解决方案。
英国Moorfield Nanotechnology公司生产的高精度薄膜制备与加工系统涵盖了磁控/热蒸发、磁控/电子束蒸发、有机物/金属热蒸发等多种制备手段。日前，中国将一台高质量磁控/电子束薄膜制备系统MiniLab-125安装于复旦大学并顺利验收投入使用。该系统与其他设备进行真空互联，实现了样品的制备、表征全流程研究体系，成为了用户对新型材料与器件研究的重要保障。
已安装验收并顺利投入使用的磁控溅射/电子束蒸发薄膜制备系统MiniLab-125
Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发与制造公司，成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统–MiniLab、台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD、台式超精准二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH、台式精准气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL是经过多年技术积累与改进的旗舰系列产品。配置灵活、模块化设计的系统，可满足一种或多种薄膜制备功能，能够满足各种用户的需求。产品推出以来已经交付于全球诸多高校和科研单位，并获得用户的一致好评。
最多三靶位，可实现直流、射频溅射，共溅射，可通Ar、O2、N2气，样品台可加热，最大支持8英寸样品，包含晶振膜厚标定系统，生长过程高精度氛围控制，触屏自动化控制系统，自动安全锁。
高质量台式磁控溅射系统S10A
可实现金属热蒸发，有机物低温热蒸发，配置灵活，包含晶振膜厚标定系统，生长过程高精度氛围控制，触屏自动化控制系统，自动安全锁。
高质量台式热蒸发系统T15A
磁控溅射和热蒸发在同一系统中灵活配置。满足不同需求。
高质量台式磁控溅射&热蒸发系统ST15A
薄膜生长方式可选：热蒸发（金属）、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射（金属、氧化物、氮化物、绝缘体）。
高精度多功能薄膜制备系统-MiniLab系列
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