新品发布 | TESCAN又出重拳，更厉害的 AMBER X 2 PFIB 来了！
2024-07-30208点击上方“”关注我们吧
新品发布
TESCAN AMBER X 2
重新定义等离子体双束电镜
新
消息！
速度、精度、好用度齐齐拉满
AMBER X 2: 材料科学的突破
新消息，新消息！科学仪器新消息！M&M 2024博览会上不仅揭晓 TESCAN新一代镓离子双束电镜 AMBER 2。更惊喜推出又一新品 AMBER X 2，惊艳全场！
这款尖端的等离子体 FIB-SEM 系统准备在材料科学研究中树立新的标准，将分辨率、吞吐量和多功能性齐齐拉满，完美完成样品制备和表征任务。
TESCAN AMBER X 2 简介
主要特点
或是市场顶配 PFIB 镜筒
AMBER X 2 让成像更卓越、分析更精确、工作流程更简便、分辨率更高、导航更轻松、切割打磨更快。
无磁场干扰的 SEM 镜筒
消除浸没式光学限制，能对各种材料进行高分辨率成像，具有广阔的视野和各种扫描模式。
多模态和多尺度分析
AMBER X 2 支持独特的 3D 方法，如实时 3D ToF-SIMS，可以获得对电池研究很重要的详细元素组成分析。
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了解详情
TESCAN MistralTM PFIB
离子束镜筒技术
精细打磨之市场zui佳FIB分辨率；
TEM薄片制备之市场zui佳离子束参数和定位精度，电压低至 500 eV；
在不同电流下都能保持离子束较小的尺寸和均匀的强度分布，从而提供更清晰的图像和更精确的分析结果。
TESCAN BrightBeamTM
扫描电镜镜筒技术
超高分辨扫描电镜，不受浸没式磁场干扰；
支持在任何样品上使用背散射电子（BSE）能量过滤进行低电压成像。
通过集成的 Essence? EBL 支持电子束光刻。
联用技术，分析能力可拓展 新！
联用ToF-SIMS（飞行时间二次离子质谱）、EDS（能谱）和EBSD（电子背散射衍射）技术，应用于 3D FIB-SEM连续切片；
多角度几何结构分析，为SEM、EDS、EBSD以及ToF-SIMS 增强信号和提高分辨率。
TESCAN TEM AutoPrep Pro?
人工智能 TEM 制样自动化软件技术
AI辅助技术，实现全自动 TEM 制样；
在低电压（keV）下也能保持清晰图像，
省心省力，轻松实现高质量的TEM样品制备。
线上发布会
为了展示 AMBER X 2 的实力，TESCAN 将与 Wiley Analytical Science 合作举办一系列信息丰富的网络研讨会。这些在线活动将全面介绍 TESCAN AMBER X 2 如何增强您的研究和开发工作流程。
八月九月系列在线报告
温馨提示：
注册时建议选择 欧洲时间 9:00am - 10:00am 档，对应中国时间 3:00pm - 4:00pm 档。
此系列报告将有中文字幕，问答环节有中方人员支持翻译沟通。
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第一场 8月20日
《介绍 AMBER X 2 和 AMBER 2：新一代 FIB-SEM，更快！更精！更好用！》
内容预告：
FIB-SEM 创新十年：TESCAN 在 FIB-SEM 开发中的历程。
Mistral? 等离子体 FIB 的力量：AMBER X 2 如何弥合精度和吞吐量之间的差距。
实际应用：AMBER X 2 和 AMBER 2 在各种研究应用中的多功能性和效率。
演讲人：TESCAN 产品经理 Martin Sláma
拥有超过 8 年的 FIB-SEM 3D 表征和材料科学 TEM 薄片制备经验。
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第二场 8月22日
《重新定义 FIB-SEM ！在 3D 多模态表征中体验 AMBER X 2 的速度、精度和好用度》
内容预告：3D 多模态表征艺术
速度和精度：AMBER X 2 如何平衡数据质量和体积。
优化 FIB-SEM 断层扫描：快速分析策略，将伪影降到最低。
实际应用：AMBER X 2 在研究各种材料中的用途。
演讲人：TESCAN 产品经理 Tomá? ?amo?il，拥有物理和材料工程博士学位，并作为应用专家拥有丰富的经验。
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第三场 9月3日
《新一代人工智能 TEM 制样自动化技术：有了 AMBER 2 和 AMBER X 2，样品制备真快！真方便！》
内容预告：
高通量 TEM 制备：AMBER 2 和 AMBER X 2 如何满足高通量、一致的样品制备需求。
自动化工作流程：AMBER X 2 中的 TEM AutoPrep Pro?。
精确的薄片几何形状：AMBER X 2 中 OptiLift? 纳米操纵器的能力。
演讲人：TESCAN 产品经理 Martin Sláma，拥有超过 8 年的 FIB-SEM 3D 表征和材料科学 TEM 薄片准备经验。
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第四场 9月5日
《 TESCAN AMBER 2 纳米原型设计好用又精细：为您打开快速开发新型设备的大门》
内容预告：
简化的工作流程：AMBER 2 的设计如何最小化停机时间并最大化效率。
多功能样品制备：AMBER 2 用于各种纳米原型设计任务的能力。
全面分析：AMBER 2 的超高分辨成像能力的洞察。
演讲人：TESCAN 纳米原型设计产品经理 Milos Hrabovsky，专注于电子和离子束图案化、沉积、增强蚀刻和通过脚本实现显微镜自动化。
线下官方发布会
TESCAN AMBER X 2 的官方发布活动:
7 月 29 日
@哥本哈根的 EMC 展会
TESCAN 展位号 B9
如果您有计划参加EMC展会，我们诚邀您来TESCAN展台，与开发者见面，一起探索 TESCAN AMBER X 2 的全部能力。
即将开放做样演示预定入口。敬请关注！
活动结束后，新的 AMBER X 2 将在我们的 Warendale（美国）和 Brno（捷克）实验室进行演示。
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