ETD-3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。
适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。
1.配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态;
2.溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得**镀膜效果;
3.特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;
4.陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用;
5.根据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀纯净。
配置参数如下:
2主机规格:L360mm*W300mm*H380mm
2靶(上部电极):金:直径:50mm,厚度:0.1mm
2真空样品室:直径:160mm,高:120mm
2溅射面积:Ф50mm
2真空指示表:最高真空度:≤4X10-2mbar
2离子电流表:最大电流:100mA
2定时器:最长时间:3600S
2微型真空气阀:可连接φ3mm软管
2可通入气体:多种
2最高电压:-3000DCV
2机械泵:2L/S
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