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离子溅射仪是一种小型镀膜装置，可用作扫描电镜、电子探针等仪器进行试样制备，是开展教学科研实验的必备仪器。

离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、铂、钯以及混合靶材等金属元素消除不导电样品的荷电现象，并提高观测效果，另外可以使用喷镀附件对样品进行蒸碳，实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。

离子溅射镀膜法

离子溅射形成干涉膜是增进相间衬度显示组织的新方法。

离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在阴极（靶）和阳极（试样）间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子，从各个方向溅出，射落到试样的表面，于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜。所以说这种形成干涉膜的方法与湃澎霍夫蒸发的方法相似。

由于阴极表面被击出的材料主要是中性原子，如果离子碰撞的能量是低的，即在低的加速电压下，击出的原子数目是相当少的，可忽略不计；在高能离子的撞击下，即加速电压超过500V，实际上每个离子能从靶材表面击出一个原子。从靶材表面溅出原子的速度，主要决定于靶材、加速电压，气压和气氛的性质。在试样表面上膜的增长速度，依赖于试样与靶的相对位置以及原子化的速度。溅射原子到达试样上的量，随着试样与靶材间距离平方的增加而降低。当试样的位置靠近和平行于靶的表面时，增长速度达到Zda，是100nm/m的数量级。

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