伯东企业（上海）有限公司
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上海伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 10

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准

考夫曼离子源 KDC 10

KRI 考夫曼离子源 KDC 10
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列最小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氩气时离子蚀刻的能力显著提高.KDC 10 离子源低损伤, 宽束设计, 低成本等优点广泛应用在显微镜领域, 标准配置下 KDC 10 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 10mA.
考夫曼离子源 KDC10
 KRI 考夫曼离子源 KDC 10 技术参数

型号

KDC 10

供电

DC magnetic confinement

 - 阴极灯丝

1

 - 阳极电压

0-100V DC

 - 栅极直径

1cm

中和器

灯丝

电源控制

KSC 1202

配置

-

 - 阴极中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

 - 架构

移动或快速法兰

 - 高度

4.5'

 - 直径

1.52'

 - 离子束

集中
平行
散设

 -加工材料

金属
电介质
半导体

 -工艺气体

惰性
活性
混合

 -安装距离

2-12”

 - 自动控制

控制4种气体


KRI 考夫曼离子源 KDC 10 应用领域
离子清洗, 显微镜抛光 IBP
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE

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上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
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www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

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KRI 考夫曼离子源 KDC 10 应用领域
离子清洗, 显微镜抛光 IBP
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
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