KRI 考夫曼离子源 KDC 100

上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 100, 属于中型规格栅网离子源. 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射.

离子束流: >400 mA; 离子动能: 100-1200 V; 流量: 2-20 sccm; 中和器: 灯丝.

采用双阴极灯丝和自对准栅网.加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.

离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.

通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.

伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数：

* 可选: 可调角度的支架

伯东KRI 考夫曼离子源 KDC 100 应用领域：

1.溅镀和蒸发镀膜 PC

2.辅助镀膜(光学镀膜)IBAD

3.表面改性, 激活 SM

4.离子溅射沉积和多层结构 IBSD

5.离子蚀刻 IBE

KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列应用案例:

1. 伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)

2. 伯东 KRI Gridded 考夫曼离子源用于离子束抛光工艺

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