美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 KDC 160. 属于栅网离子源, 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.

离子束流: >650 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量 (Typical flow): 2-30 sccm.

加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.

离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.

无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计.

伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 技术参数：

* 可选: 可调角度的支架

伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 应用领域:

1. 溅镀和蒸发镀膜 PC

2. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD

3. 表面改性, 激活 SM

4. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD

5. 离子蚀刻 IBE

KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列应用案例:

1. 伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)

2. 伯东 KRI Gridded 考夫曼离子源用于离子束抛光工艺

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