美国 KRI 射频离子源 RFICP220

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 220, 大面积高能量栅网离子源.

离子束流: >800 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量(Typical flow): 10-40 sccm; 压力: < 0.5m Torr

离子束可聚焦, 平行, 散射.

采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长.

通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.

伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:

* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量

伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 应用领域：

1. 预清洗

2. 表面改性

3. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,

4. 溅镀和蒸发镀膜 PC

5. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD

6. 离子蚀刻 IBE

KRI 射频离子源相关应用案例:

1. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 应用于离子刻蚀 IBE

2. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 325 辅助 LED-DBR 镀膜

3. 伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)

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