六氟化钨传感器-四方光电（武汉）仪器有限公司

详细信息

四氟化硅传感器四氟化硅传感器是由四方光电自主研发的高性能气体传感器，产品基于非分光红外技术(NDIR)，能够精确测量半导体等应用中产生的SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体，兼容机台内常见预留尺寸、法兰和通讯协议，适合半导体行业化学沉积设备、原子层沉积设备腔室的清洁终点监测。

四氟化硅传感器四氟化硅传感器产品特性

使用NDIR技术，多气体监测支持(SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体)

响应时间快，高灵敏度

无耗材

模拟/数字通信

模块化设计，便于集成

四氟化硅传感器技术参数

检测原理	NDIR
检测气体	SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2
量程	1~264ppm(0~200mTorr)
重复性	±0.5%
线性	±1%F.S.
检测限	1ppm

产品优势

红外气体传感器是由四方光电自主研发的高性能气体传感器，产品基于非分光红外技术(NDIR)，能够精确测量半导体等应用中产生的SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体，兼容机台内常见预留尺寸、法兰和通讯协议，可用于半导体沉积和清洗工艺的端点检测、腔室清理终端检测,能够减少清洁时间,节约成本,提高产量。