原位激光过程气体分析仪-四方光电（武汉）仪器有限公司

详细信息

原位激光过程气体分析仪GasTDL-3100

GasTDL-3100原位激光过程气体分析仪是基于可调谐半导体激光吸收光谱技术（TDLAS）的高性能光学分析仪器，采用对射式设计，可用于工业过程气体控制；其响应时间快速，在原位式测量中一般以秒计算，避免采样式测量带来的时间延迟，可在线及时的反应被测气体浓度。

原位激光过程气体分析仪GasTDL-3100产品特性

采用TDLAS技术，被测气体不受背景气体交叉干扰

原位安装，无需采样预处理系统

响应快速（T90≤1s），可实时反应气体浓度

实时在线测量，气体浓度不易失真，测量精度高

在高温、高粉尘、高水分、高腐蚀性、高流速等恶劣测量环境下具有良好的适应性

隔爆防爆设计，安全系数高

构造简洁，无可动元件，无损耗元件，免维护

原位激光过程气体分析仪GasTDL-3100产品特性

性能参数
测量组份	H2S、O2、CO、CO2、CH4*
测量原理	TDLAS
测试范围	H2S：0 ~ 100ppm，0 ~ 5000ppm O2：（0 ～ 5）%VOL （可定制100%） CO：（0 ～ 100）%VOL CO2：（0 ～ 100）%VOL CH4：（0 ～ 20）%VOL



精度	≤±1%F.S.
重复性	≤±1%
量程漂移	≤±1%F.S.
分辨率	0.01%VOL
响应时间	T90≤1s
工作参数
防爆等级	Ex d IIC T6 Gb
安装方式	原位安装
环境温度	（-20～ +60）℃
工作电源	24V DC，24W
吹扫气体	（0.3～ 0.8）MPa工业氮气
接口信号
通讯	RS485、RS232
输出模式	2路4-20mA输出 3路继电器输出
输出模式	2路4-20mA输出 3路继电器输出

产品优势

1、采用TDLAS技术，被测气体不受背景气体交叉干扰
2、原位安装，无需采样预处理系统
3、响应快速（T90≤1s），可实时反应气体浓度
4、实时在线测量，气体浓度不易失真，测量精度高
5、在高温、高粉尘、高水分、高腐蚀性、高流速等恶劣测量环境下具有良好的适应性
6、隔爆防爆设计，安全系数高
7、构造简洁，无可动元件，无损耗元件，免维护