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JBX-3050MV 电子束光刻系统


  • JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。

  • zuixianjin的技术实现了高速、高精度和高可靠性。

  • 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统

  • 利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能,能支持下一代掩模版/中间掩模版(mask/reticle)图形制作所需要的多种补偿。

JBX-3050MV 参数.jpg

JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zuixian极n的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。

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