超高分辨热场发射扫描电子显微镜JSM-7610FPlus上市

2020-01-101192

-极微细结构观察和微小区域分析的高性能FE-SEM-

日本电子株式会社（社长栗原权右卫门）宣布：超高分辨热场发射扫描电子显微镜JSM-7610F升级为JSM-7610FPlus,于2017年9月开始销售。

开发背景

扫描电子显微镜被广泛应用在纳米技术、金属、半导体、陶瓷及医学生物学等各种各样领域里，而且它的用途越来越广。为了对应在高分辨条件下的材料微细结构解析，提高JSM-7610F的分辨率，对电子光学系统做了重新研究。半浸没式物镜和大电流下高稳定性的in-lens热场发射电子枪的wan美组合，使得该设备兼具超高分辨率观察和高空间分辨率分析的能力。

主要特点

1.具有高分辨能力的半浸没式物镜（Semi-in-lens）

半浸没式物镜能将电子束收缩的很细，即使在低加速电压下也能实现高分辨。

2.采用GENTLEBEAM™模式，低加速电压下的Z表面观察

GENTLEBEAM™模式（GB mode）是通过给样品加以偏压使得电子束在到达样品前减速的功能来实现低加速电压下的有效观察和分析。

3.r-filter信号选择

通过r-filter选择样品上产生的二次电子和背散射电子信号进行检测。

4.LABE探头（可选件）检测低角度背散射电子像

LABE（Low Angle BE）探头检测低角度的背散射电子，在低加速电压下能观察样品表面的微细的凹凸信息，在高加速电压下能观察样品的组成信息.

5.High Power Optics高能光学系统

大电流下高稳定性的in-lens热场发射电子枪和全电流范围内自动优化束径的ACL的wan美组合，能够进行稳定的观察和分析.

6.多种附件

EDS（能谱）、WDS（波谱）、CL（阴极发光）

主要技术规格

分辨率（SEI）	0.8nm（15kV） 1.0nm（1kV， GB模式）能谱分析时，3.0nm（15kV、WD8mm、照射電流5nA）
倍率	×25～×19,000（LM模式） ×130～×1,000,000（SEM模式）
加速电压	0.1kV～30kV
照射电流	数 pA～200nA
电子枪	In-lens热场发射电子枪

更多信息请登陆： JSM-7610FPlus 热场发射扫描电子显微镜