等离子刻蚀机采用的技术资料

等离子刻蚀机就是用化学的、物理的或同时使用化学和物理的方法，有选择地把没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜层除去，从而在薄膜上得到和抗蚀剂膜上完全一致的图形。简单点说就是通过刻蚀技术在薄膜上绘制不同的图形，得到工艺要求的图案。在半导体工艺，等离子刻蚀机按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性腐蚀或剥离的技术。

    等离子刻蚀机技术分为干法刻蚀和湿法刻蚀，湿法刻蚀主要是指化学刻蚀，干法刻蚀主要指等离子刻蚀和激光刻蚀。

    等离子刻蚀机的原理与激光打标机相同，即通过高能量的激光光束照射到材料表面使其瞬间气化形成图案、文字等。而与打标机相比要求的精度更高，对材料表面的加工精度要求也更高，通常激光刻蚀机用在触摸屏行业内的ITO刻蚀，银浆刻蚀等。

    在早些年前激光刻蚀机在行业内几乎都统称为触摸屏激光刻蚀机，在触摸屏行业内得到了广泛应用，手机电阻屏、电容屏的发展也让激光刻蚀机厂家发展发生了质的变化，主要体现为ITO玻璃激光刻蚀、银浆玻璃激光刻蚀等，也有一部分是ITO薄膜与银浆薄膜刻蚀。

    而随着手机行业的发展，OLED的崛起，触摸屏行业的等离子刻蚀机逐渐呈现饱和趋势，激光刻蚀机厂家也随之加大对材料应用的研发投入和应用方向的投入，太阳能、光伏行业将会成为激光刻蚀机下一个重要发展领域。

    太阳能光伏行业的一些采用应用包括金属合金薄膜材料，如铝薄膜，铜薄膜，镉薄膜，合金薄膜等。也有一些高端玻璃镀层和特殊材料镀层的应用，如碳纳米玻璃材料应用。