2GL双光子灰度光刻技术成为消除台阶效应的光学加工解决方案
斯图加特大学的Harald Giessen课题组研究人员使用Nanoscribe的双光子灰度光刻系统Quantum X加工出了具有优异光学性能的双层透镜(下方左图)。采用非球面面型设计的透镜对聚焦效率有明显提升,并且双层透镜对比单层透镜在时场上有明显提升(下方右图)。
“我们设计、打印和优化了直径为300微米的空气间隔双透镜。优化后,双透镜的顶部透镜残余形状偏差小于100纳米,底部透镜残余形状偏差小于20纳米。我们利用USCF1951分辨率测试图表检查光学性能,发现分辨率达到645线对每毫米。”
---Harald Giessen课题组
双光子灰度光刻技术优势
双光子聚合技术和双光子灰度光刻技术的对比。左图为双光子聚合技术,右图为双光子灰度光刻技术
Nanoscribe公司产品应用经理Benjamin Richter分别使用传统的双光子聚合技术(下图左侧)与双光子灰度光刻技术(下图右侧)加工出一个小姑娘模型,来验证台阶效应的消除。这简直是从低分辨率升级到了4K时代。在提升精度的同时,灰度技术还可以显著提升加工速度。4096级光斑大小调节能够以一层加工出灰阶位数为12bit的结构。Nanoscribe的QX平台系列设备比PPGT2的加工速度提升了1个数量级。
Complex aspherical singlet and doublet microoptics by grayscale 3D printing
PMID: 36785392 DOI: 10.1364/OE.480472
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