Leica EM RES102离子减簿仪
使用徕卡 EM RES102,使您的样品具备最高水平的灵活性,具有轻薄、清洁、抛光、切割的坡度和结构。独特的离子束研磨系统结合了在一个单工作台面单元上制备TEM、SEM和LM样品的特点。
各种样品架可以进行多元化应用。除了高能量的离子铣工艺,徕卡EM RES102也可适于采用低离子能量处理非常柔软的样本。
TEM,SEM和LM应用功能集于一体
SEM样品制备最大可达25mm样品直径
TEM样品制备获得的薄区大,有效提高了TEM样品制备效率
局域网功能方便远程操控
离子源和样品运动马达驱动,程序化控制,因而可获得重复性制样结果
LN2样品台使得温度敏感型样品可在优化条件下进行离子研磨
内置应用参数库
帮助文件帮助初学者以及对设备进行维护
为了支持多样化的应用需求,Leica EM RES102 可以装配各种样品台以适用于TEM,SEM及LM样品制备。预抽室系统实现样品快速交换,从而可有效提高样品交换效率 。
斜坡切割样品台适用于切割样品获得纵截面(90°)或斜截面(35°),便于SEM观察样品内部纵向结构,可以在环境温度下或 LN2 制冷情况下使用。
该样品台适用于SEM和LM样品的离子束清洁,抛光和衬度增强,可在环境温度下或 LN2制冷情况下使用。SEM样品台可以制备最大尺寸达 25mm 的样品。适配器用于夹持商品化生产的带有3.1mm直径插针的SEM样品座。
薄片样品台用于夹持最大尺寸为5(H)×7(W)×2(D) mm样品。该样品台可以很方便地被直接转移进SEM中,而不需要取出样品。
TEM样品夹用于单面或双面离子束减薄,减薄角度可低至4°。
TEM冷冻样品夹具与LN2制冷装置联用,用于制备温度敏感型样品。
FIB清洁样品台用于清洁FIB样品,减少表面无定形非晶层。
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