SD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。
配有高位定性的飞跃真空泵
需要镀膜的样品
| 电子束敏感的样品 | 非导电的样品 | 新材料 |
主要包括生物样品，塑料样品等。 S EM中的电子束具有较高能量， 在与样品的相互作用过程中， 它以热的形式将部分能量传递给样品。 如果样品是对电子束敏感的材料， 那这种相互作用会破坏部分 甚至整个样品结构。这种情况下， 用一种非电子束敏感材料制备 的表面镀层就可以起到 保护层的作用，防止此类损伤； | 由于样品不导电，其表面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累被称为“充电”。 为了消除荷电效应，可在样品表面镀一 层金属导电层，镀层作为一个导电通道， 将充电电子从材料表面转移走， 消除荷电效应。在扫描电镜成像时， 溅射材料增加信噪比， 从而获得更好的成像质量。 | 非导电材料实验电极制作 观察导电特性 |
ETD系列镀膜仪是一款专为SEM、TEM及薄膜应用设计的真空镀膜仪，对于扫描电镜尤其是高分辨场发射扫描电镜(SEM)样品制备、透射电镜(TEM)及其它非电镜(如材料领域)镀膜应用非常理想。ETD离子溅射仪采用金属压制的标准机箱，此机箱做工精良，结构稳固。飞越牌真空泵抽数快，真空稳定性高。自主设计的微型真空阀能准确的控制好压强，保证了镀膜期间**的真空条件。真空腔室直径为165mm (6.5英寸)的硼硅酸盐玻璃，特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；陶瓷密封高压头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。ETD系列含有电磁阀装置，在工作完毕后缓慢，平稳的进气以确保镀好的膜层尽可能的不被空气中的杂质所污染。ETD系列有七种型号：SD-900、SD-800、SD-900C、SD-800C、SD-900M、SD-3000、SD-MH、SD-CH，其中SD-900C为一款集成了离子溅射和热蒸镀两种真空镀膜方式的系统，镀膜头可在数秒内快速完成镀膜。它既可溅射易氧化及不氧化金属（贵金属），标配一块金靶，可选金、银、铂等多种金属靶；用来制作高稳定性的碳膜和表面覆形膜，对透射电镜（TEM）的应用非常理想。
SD-900M为一款溅射插入头为磁控系统的溅射仪，可使溅射处理期间产生的高能电子偏转，从而远离样品，这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响，且确保溅射成膜中的精细颗粒结构；
SD-3000型为一款针对材料做电极的溅射仪，较高的输出电压能使成膜更加牢固，防止膜层脱落。
仪器特点：
金属溅射和碳蒸发两者兼备，一体化设计，结构紧凑，节约空间。
精细颗粒溅射——适合先进的高分辨率场发射扫描电镜和钨灯丝扫描电镜制样的应用。
定时器控制——快速数据输入，操作简单。采用定时器作为简单的操作核心，即使最不熟练的或偶而使用的操作者，仪器也能使其快速键入自己的处理数据。
微型真空调节阀让使用者更好调节真空，以适应不同的靶材和材料，形成最更优质的薄膜。
精细的厚度控制——使用膜厚监控选项。（选配）
先进的碳纤维夹持上盖——简单操作，重复性好。
标配高低可调节样品台，可放置多个样品杯。还可定制多种型号样品台。
自动泄气装备可防止真空泵由于压差原因使油倒灌进样品室，还可避免样品突然暴露在空气中造成膜的污染。
标准成型机箱——小巧，美观，易维护和易拆装。
特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；陶瓷密封高压头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。
部分可选项：
光纤夹持旋转样平台
球型旋转台
显微镜载玻片样品台
用于高样品的加高腔室
膜厚监测附件（FTM），用于可重复膜厚控制：到达理想膜厚。
北京博远微纳科技有限公司
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