极紫外光刻材料研究进展

文档简介极紫外光刻是微电子领域有望用于下一代线宽为22nm 及以下节点的商用投影光刻技术，光刻材料的性能与工艺是其关键技术之一。为我国开展极紫外光刻材料研究提供参考，综述了Z近几年来文献报道的研究成果，介绍了极紫外光刻技术发展历程、现状、光刻特点及对光刻材料的基本要求，总结了极紫外光刻材料的研究领域和具体分类，着重阐述了主要光刻材料的组成、光刻原理，光刻性能所达到的水平和存在的主要问题，Z后探讨了极紫外光刻材料未来的主要研究方向。