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DRC-ICP-MS在半导体超纯材料分析中的应用
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DRC-ICP-MS在半导体超纯材料分析中的应用
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- 金刚石的特性及应用作为一种优秀的材料,金刚石具有极高的硬度、热稳定性、光学透明性和电学特性,同时具备优异的热传导性和机械强度,这些特性为其在半导体行业中的应用提供了广泛的可能性。金刚石半导体的性质优异,具有高电子迁移率、高崩溃场、高饱和电子速度、高电子击穿场强和极低的自由载流子浓度等特性,被认为是第三代半导体材料的候选材料之一。
目前,金刚石作为半导体材料主要应用于以下方面:
1. 光电器件领域
金刚石半导体具有优异的光学和电学特性,可以用于制造高功率和高频率的光电器件,如高功率激光器、高速光通讯模块、太赫兹探测器等。
2. 电子器件领域
金刚石半导体在电子器件领域的应用主要是基于其高电子迁移率和高电子饱和漂移速度,可以制造高性能的功率器件、薄膜晶体管、高速整流器等。
3. 传感器领域
金刚石半导体具有优异的热传导性和机械强度,可以制造高灵敏度和高可靠性的传感器,如高温、高压力、高速度传感器等。
二、金刚石作为半导体材料的前景
金刚石半导体具有优异的特性,且可以针对不同应用进行优化设计,因此在未来的半导体领域中具有广阔的应用前景。特别是在高功率电子器[详细]
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- 短波红外相机可以靠红外线成像。这点是普通相机不能做到的。短波红外的成像原理与可见光十分相似,不同的是短波红外的波长可以“绕过”烟、雾、霾中的细小颗粒;相比中波红外、长波红外,短波红外拥有更好的细节分辨和解析能力,能够很好的识别出该目标是。这就使得短波红外在雾霾、烟雾浓重的情况下,仍可对物体清晰成像。
现代潜艇的光电桅杆需要多光谱的成像与检测。例如,可见光成像通常无法透过雾霾、尘、烟观察目标,然而短波红外却很容易实现。这种情况下,短波红外相机有着更好的成像效果。
短波红外与中长波红外的一项重要差异是,它利用反射光成像,而不是辐射热成像。中长波相机无法看到海上目标的重要特征,比如说舰船的名字、船的特征等,短波红外相机可以在此提供辅助
纯净的硅锭在室温下是透明的,而掺杂型的硅锭在室温下是不透明的,并且随着温度的升高,不透明度也随之升高;
短波红外相机的感光范围是900-1700nm,而1200nm以上的光可以轻易的穿透掺杂型硅锭,这使得利用短波红外在半导体材料的品质检测、硅锭和晶片成品的缺点或裂纹检测以及晶元切割过程中的激光对准等方向上大有所为。
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- 飞纳台式扫描电镜在半导体行业中的应用
- 飞纳台式扫描电镜在半导体行业中的应用随着近几年半导体产业井喷式的增长,关键技术中扫描电镜的使用也受到的重视,如今台式电镜的操作和维护越来越简便,对国内半导体厂商来说无疑增加了研发和生产的利器,目前台式扫描电镜在半导体行业中主要是用来做形貌观测,更重要的是做元素分析等。飞纳台式扫描电镜拥有方便的操作,较好的维护,而且能结合能谱进行快速的元素分析,可以明显提高企业效率,是半导体行业的**选择。现在台湾的台积电,台联电纷纷登陆ZG,在武汉设厂,但是成品率,产值,效益都还很有待提高。大陆越来越有作为半导体代工工厂的能力了,如何扎实做好半导体工艺,提高半导体集成电路设计水平,是半导体/微电子行业未来的工作。半导体行业的市场现状在日本,有人把半导体比喻为工业社会的稻米,是近代社会一日不可或缺的。在国防上,惟有扎实的电子工业基础,才有强大的国防能力,1991年的波斯湾战争中,美国已经把新一代电子武器发挥得淋漓尽致。自1970年后,美国与日本间发生多次贸易摩擦,Z后在许多项目中美国都妥协了,但是为了半导体,双方均不肯轻易让步,Z后两国政府慎重其事地签订了协议,足证对此事的重视程度,这是因为半导体工业发展的成败,关系着国家的命脉,不可不慎。而在台湾,半导体工业是新竹科学园区的主要支柱,半导体公司也是Z赚钱的企业,台湾如果要成为明日的科技硅岛,半导体工业是必经的途径。经过几十年的调整,在国内半导体行业景气度也持续好转。2016年,超过六成上市公司业绩预增。其中,全志科技2015年年报显示,实现营业利润10883.00万元,比上年同期增长11.02%;归属于母公司净利润12,797.54万元,比上年同期增长15.99%。此外,中颖电子发布的一季报业绩预告显示,预计2016年13月份归属于上市公司股东的净利润为1300万至1500万元,同比增长84.14%至112.46%。其中,半导体及元件行业平均净利润增长率为14.38%。公司表示,报告期内,因客户需求同比增加,销售同比呈现增长,且因去年同期的盈利基期相对较低,盈利同比则大幅增长。飞纳台式扫描电镜在半导体存储芯片中的应用1、光学导航下的半导体样品,可以清楚的定位到某一个区域,飞纳电镜du家的光学导航,具有内置彩色光学显微镜,不仅能实现快速定位到样品感兴趣位置,还能对样品在光学下进行拍照,与电镜下图片进行对比:[详细]
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2018-08-22 10:00
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- 背景介绍:电子半导体行业近几年发展特别快,随之而来的是生产过程中产生了大量的有毒有害废水,包括酸碱废水、含氟废水、金属废水、有机废水、氰化物废水等,这些废水必须经过处理达标后才能排放。目前,电子半导体行业没有针对性的污染物排放标准发布,其执行的标准仍为《污染物综合排放标准》,但是,电子半导体企业对废水排放有严格的内控指标。电子半导体企业除了监控COD、氨氮等常规指标外,也非常重视砷、铅等一类重金属污染物的排放量。厦门某电子公司于2015年采购了一台XOS总砷分析仪,用于排口废水总砷监测,测试数据通过MODBUS通讯(仪表自带RS485接口)传输至PLC,实时上传至当地环保局。仪表从企业正常生产后开始运行,连续运行两个多月无需维护,测量数据稳定,用户反馈较好。更多关于该案例的详情,以及XOS总砷分析仪的,请您下载后查看。[详细]
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2018-08-26 10:00
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