美国阻碍中国引进荷兰光刻机 将会激励国产来得更猛烈

曝光机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此曝光机价格昂贵，通常在 3 千万至 5 亿美元。

美国政府转而施压荷兰政府考虑“安全问题”。美国国防部官员多次会晤荷兰官员，阻挠荷兰阿斯麦公司向中国企业出售一台价值1.5亿美元的极紫外光刻机。

我国对光刻机和极紫外光刻技术的探索从未停止。半导体设备是芯片制造的基石，目前国产半导体设备布局完整，部分领域有所突破，半导体设备国产化迎机遇。优质国产设备将继续实现进口替代，持续提升国产化率。

极紫外线光刻机

极紫外线光刻机是芯片生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆，只能用EUV光刻机生产。阿斯麦公司掌握了90%以上的高端光刻机市场份额。最新的两代高端光刻机领域，即浸入式(Immersion)和极紫外线式(EUV)光刻机，全部由阿斯麦掌握核心技术。

光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动

A手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了;

B半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐;

C自动： 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。