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应用分享|描绘信息显示技术演变进程

赛默飞世尔科技分子光谱 2021-11-11

应用分享|描绘信息显示技术演变进程


显示技术已成为我们生活中不可或缺的部分,将清晰的文字、生动的图片和精彩的视频透过我们每天浏览的屏幕进行呈现。对显示设备制造商而言,这带来了重要的机遇和挑战。

机遇存在于越来越多的应用中,从我们手腕上的智能手表,到互联网汽车的互动屏幕,再到quan球各地的体育场馆的动态标识和屏幕。

在确保更好的图像质量的细节增强方面出现了挑战:如分辨率、刷新率、色域、亮度、对比度等。实现下一代性能需要在背板技术和光转换效率等领域进行创新。


搭建市场空间模型

简单地说,显示技术市场涵盖了三个基本类别:行业、应用和外观性能。除了消费电子产品,其他值得关注的领域还有汽车、医疗健康和零售行业。显示技术在这些以及更多行业领域中,主要应用于移动设备、可穿戴设备、数字标牌、高清电视以及台式电脑和笔记本电脑的显示屏(图1)。


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图1. 对于显示设备制造商而言,这种市场空间模型只是机会的冰山一角。


对于制造商和终端用户而言,外观性能是创新的关键领域。围绕可弯曲、可折叠、可伸缩或透明显示的新材料的持续研究正取得巨大的进展。在移动设备、可穿戴设备和互联网汽车领域的下一代应用备受瞩目。


勾勒显示技术的发展路线图

在显示技术行业中,发展路径将经过主流的,近期新兴的和未来将探索的技术。目前的主流技术是液晶显示屏(LCD)和有机发光二极管(OLED)技术,且越来越多的应用正从LCD向OLED技术转变。为了与OLED制造商竞争,许多LCD制造商正在开发如量子点发光二极管(QLED)和迷你发光二极管等新技术。


展望未来,显示设备制造商正积极投资如有源矩阵有机发光二极管(AMOLED)、微型有机发光二极管和下一代量子点技术(例如:量子点彩色光转换膜)。他们还投资如微型发光二极管和电致发光量子点等下一代技术,这两项技术都需要更严格的设计和生产参数。


面临的挑战

对于主流显示技术而言,加工工艺控制(例如:测量)和失效分析(FA)是提高良率和质量的关键。zui新的显示屏结构需要对背板和发光单元的关键尺寸(横向和纵向)进行精确控制(图2)。而这就需要高度jing准的测量。由于颗粒、污染或工艺偏差造成的缺陷会严重影响良率和质量,因此在产品生命周期的早期阶段,越来越详细的失效分析是必不可少的。


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图2:该示例图展示了移动设备显示屏中影响良率和质量的堆叠层。


在针对材料工程的研发中,关键的研究主题包括用于创新外观的新背板技术和例如OLED薄膜封装(TFE)技术等新领域,还有量子点发光和纳米级封装,以及微型发光二极管的量子效率。


满足行业的需求

在半导体器件的研发、测量和失效分析方面,赛默飞世尔科技(TFS)提供一套独特而全面的工作流程,来满足显示设备制造商的需求。我们的测量解决方案提供zhuo越的可复现性和高质量的纳米级分析能力。对于缺陷的隔离和分析,我们的扫描电子显微镜(SEM)、聚焦离子束扫描电镜(FIB-SEM)和透射电子显微镜(TEM)的解决方案可提供自动化、高精度的样品制备和行业领先的成像技术。







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