会议邀请| PHI CHINA邀您参加第八届中国二次离子质谱会议

       第八届中国二次离子质谱会议将于2021年11月12-15日在珠海举办。会议内容涵盖广泛，包括二次离子质谱仪器理论、微区和原位分析、原位分析新技术、在电子材料、地球科学、生命科学、环境科学等领域的应用等。大会将邀请国内外知名专家学者就二次离子质谱学术领域的前沿热点问题进行交流，促进二次离子质谱技术在各领域的应用，为相关专家学者搭建一个交流和展示的平台。

       PHI CHINA将参与本次11月14日的会议并带来题为“Newest modem TOF-SIMS development&its applications in various fields”主题报告，欢迎各界同仁前往参会，友好交流。

时间

2021年11月14日 9:15-10:00

地址

广东珠海怡景湾大酒店 二楼芙蓉厅

报告人简介

Wensly Yip

报告题目：

Newest modem TOF-SIMS development&its applications in various fields

简介

叶上远 总经理（PHI CHINA）

毕业于南非开普敦大学电动与电子工程学系。有超过15年在表面分析相关领域的经验。目前作为高德英特公司在中国区的销售和售后部总执行总监，主要专业包括X射线光电子能谱仪（XPS），俄歇电子能谱仪（AES）和飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）相关的表面分析技术。

PHI第7代TOF-SIMS

全新的外观设计，更小的占地面积和更低的能耗。并且配置新型铋源LMIG团簇离子枪，具有更高的空间分辨率。