芯中有我｜电子级双氧水

过氧化氢

也叫双氧水，是半导体行业常用的一种化学试剂，主要用作半导体硅晶片清洗剂，蚀刻剂和光刻胶去除剂，还可用于高级绝缘层制取，电镀液无机杂质去除，电子行业中铜、铜合金和镓、锗的处理，以及太阳能硅晶片的蚀刻和清洗。在处理过程中，试剂中的杂质会对元器件性能产生致命影响，因此必须使用纯度非常高的过氧化氢。

目前国内在过氧化氢方面的标准主要有GB/T 1616-2014《工业过氧化氢》、GB 22216-2008《食品添加剂 过氧化氢》、GB/T 6684-2002《化学试剂 30%过氧化氢》和HG/T 5553-2019《土壤修复用过氧化氢》，标准的要求相对较低，不能满足半导体行业的使用。而国际半导体协会SEMI则是专门针对半导体行业推出了相关的国际标准《SEMI C30-0301SPECIFICATIONS AND GUIDELINES FOR HYDROGEN PEROXIDE》，其中对半导体用的过氧化氢中各项杂质含量做出了规定，并推荐了检测方法。

对于Grade 2和Grade 3产品，SEMI建议将样品加碱蒸馏后使用离子色谱法检测其中的氯离子、硝酸根、磷酸根和硫酸根。瑞士万通离子色谱可以充分满足该标准的检测要求，并且针对前处理中加碱容易引入杂质的方法缺陷进行了改进。

样品前处理中加碱蒸馏的目的是为了将过氧化氢分解，从而避免过氧化氢对色谱柱的氧化破坏。除SEMI标准中提到的上述方法外，还有人采用铂电极催化的方法来分解过氧化氢，该方法虽然避免了杂质离子的引入，但是样品处理时间较长，而且需要加热；也有人采用在线阀切换的方法减少过氧化氢对色谱柱的破坏，但是该方法需要的仪器配置较高，不适合大面积推广使用。针对以上问题，瑞士万通推出了英蓝预浓缩-基体消除技术，电子级过氧化氢可直接进样，无需前处理，且仪器配置简单，可有效降低使用成本。

只需将样品放置在自动进样器上，系统便可自动完成样品的基体消除和预浓缩过程。首先，通过瑞士万通高精度的移液装置Dosino移取一定体积的样品使其通过预浓缩柱，其中痕量阴离子被保留在预浓缩柱上，然后使用高纯水流经预浓缩柱，将不带电荷的过氧化氢冲入废液中，而其中的痕量阴离子则不会被洗脱下来，实现浓缩和基体消除的目的。再用淋洗液反向冲洗预浓缩柱，留在预浓缩柱上的阴离子即可被带入色谱柱进行分离。

某客户VL级H₂O₂样品谱图（25.5% ~ 26.5%）

英蓝预浓缩–基体消除技术对电子级过氧化氢直接进样分析的方法，可以有效解决过氧化氢基体对色谱柱及谱图的不利影响，同时直接进样使得痕量阴离子的检测灵敏度及准确性大幅提高。

英蓝预浓缩– 基体消除技术是英蓝预浓缩、英蓝基体消除技术的联用，除此之外瑞士万通还有英蓝超滤、英蓝渗析、英蓝单标多点、英蓝基体中和等多种样品前处理技术，可以根据样品情况自由组合配置，充分满足各种不同应用场景的需要，为您提供定制化服务。

想要了解更多内容，请联系当地销售工程师或拨打400-604-0088，瑞士万通竭诚为您服务！