等离子处理系统及原理的基础知识_kimberlite

等离子处理系统采用的是是干法清洗，主要清洗很微小的氧化物和污染物。等离子清洗机清洗原理与其他清洗机的原理不同，当舱体里接近真空状态时，开启射频电源，这时气体分子电离，产生等离子体，并且伴随辉光放电现象，等离子体在电场下加速，从而在电场作用下高速运动，对物体表面发生物理碰撞，等离子的能量足以去除各种污染物，同时氧离子可以将有机污染物氧化为二氧化碳和水蒸气排出舱体外。

真空等离子清洗机，等离子处理系统

等离子清洗不需要其他的原料，只要空气、氧气、氮气等气体就能够满足要求，使用方便而且没有污染，同时比其他清洗机器更具有的优势。等离子处理机不但可以进行表面清洗，更重要的是可以提高表面活性，等离子体与物体表面进行化学反应能够产生活性化学集团，应用范围很广，比如提高材料表面粘接能力，提高焊接能力，邦定性，亲水性等等很多方面。