真芯诚熠丨赛默飞半导体行业解决方案网络课堂系列

洞察需求，提供解决方案

提供分析设备，加快缺陷识别，实现良率提升

进入21世纪以来，半导体行业迎来了高速发展的黄金时期，如何保持行业百尺竿头更进一步的茁壮发展状态，这就需要不断精进的分析设备，用来把关产品的高质量。赛默飞世尔科技深知半导体、微电子客户的产品检测需求，为专业人士提供了可视化、可轻松访问的网络课堂平台，让您足不出户获取半导体先进分析解决方案。

本次网络课堂系列内容主要涉及到半导体行业电性能失效分析、结构/元素分析（S/TEM、FIB样品制备）、电路编辑系统等核心技术讲解。

网络课堂简介

●纳米探针的原理及应用介绍●

演讲嘉宾：邱安琪 博士

在逻辑和存储芯片的新兴设计节点中，纳米探针已经成为每个lingxian企业的失效分析实验室里必不可少的工具。赛默飞世尔科技的新一代产品正在推向市场，它提供迄今为止Z高水平的自动化程度。在基于电子束和原子力探测的平台上，这家服务科学的ling导者再一次以创新和能力为业界树立了一个标杆。快速和高精度的故障定位是实现您S/TEM投资回报的关键。加入我们的网络研讨会，进一步了解Z新的针对逻辑和存储芯片纳米探针分析流程是如何成为您快速实现良率提升的关键。

●Meridian光学系统快速定位电性能失效介绍●

演讲嘉宾：王青青 博士

电性故障分析方法有助于现代晶圆厂提高良率，调试设计方案和工艺参数，并确定质量和可靠性故障的根本原因。在这场网络研讨会中，我们将介绍Meridan S光学故障定位系统，并展示目前在半导体行业中几种已被证明有效的技术，用于定位、隔离和表征芯片故障的根本原因。通过对电性和光学器件机理以及测试设计平台架构的精确控制及调整，Meridian系统可以精确地定位晶圆，芯片或封装结构中的故障位置。这些位置是你能发现的致命缺陷，足以影响或破坏芯片的性能和可靠性。加入我们的网络研讨会，进一步了解高性价比的Meridian S系统是如何帮助您解决失效分析中的Z大挑战来实现良率提升。

●Helios 5 FX : GX，精确实现S/TEM分析流程介绍●

演讲嘉宾：顾晓汀博士

当今半导体和平板显示的技术路线正受到日益增长的对性能提高、成本降低、功率优化和产品开发周期缩短的需求推动。芯片创新正在推动器件在几何形状收缩，新材料，并往三维结构发展。这些反过来推动了对更高的速度、更精确的三维物理失效分析工作流程的需求。诸如高分辨率SEM, S/TEM图像采集和EDS元素分析也成为了此类三维分析流程的核心部分。Helios家族的FIB/SEM 双束系统提供了Z高水平的样品制备和成像能力。加入我们的网络研讨会，进一步了解双束电镜的Z新一代系统Helios 5，了解它如何帮助您满足您实现Z具挑战，特定位置的S / TEM样品制备需求。

●走近Centrios : 高性能电路编辑系统助力集成电路设计更快走向市场●

演讲嘉宾：David Tien

您是否厌倦了使用过时的工具或“临时电路编辑”工具来实现折衷的电路编辑性能？或者，当您处理到芯片深层时，是否受到由于不平整的去层而导致的结构高低落差大的困扰？您是否还在挣扎于低可见度、不均匀深通孔、不充分导线填充？如果您想为先进电路编辑找到一个更简单、更有效的解决方案，就不需要再妥协了。赛默飞世尔科技Z新的Centrios系统是一个专门的电路编辑系统，提供了一个简单易用的操作界面，结合了聚焦离子束（FIB），二次电子探测（SED）和气体输送系统的Z新改良技术。加入我们的网络研讨会，进一步了解Centrios如何通过快速原型和设计调试/修正来帮助您节省数月的生产制造周期，使您更快地将新产品推向市场。

演讲嘉宾介绍

支持团队介绍

我们热烈欢迎对失效分析、结构/元素分析、电路编辑系统等技术感兴趣的半导体、微电子客户参加我们的网络课堂！

参与直播提问赢好礼

参与直播提问环节前5名提问嘉宾，或者参加3场以上并与我们积极互动的听众，我们将送出赛默飞定制的好看又好玩的Helios 5积木1个！让您即刻拥有实验室同款mini Helios 5！好礼不等人，快来报名参加网络课堂吧！

报名地址：http://thermofisher.mikecrm.com/NssVZ2Z

关于我们

对于半导体制造商和电子行业，赛默飞将化学分析、电气失效分析解决方案与SEM、TEM、DualBeamTM FIB/SEM和先进的软件套件相结合，以提供具有Z高成功率和生产率的根本原因分析。我们的业界ling先工作流程可为半导体产品提供快速、jing准的解决方案，助力加速IC设计和制定生产决策。我们的故障隔离和分析可提供优质图像、横断面计量和自动化，以加快过程缺陷识别、实现根本原因分析、减少良率损失，并加快新产品上市时间。