直接带隙半导体:导带Z小值(导带底)和价带Z大值在k空间中同一位置。电子要跃迁到导带上产生导电的电子和空穴(形成半满能带)只需要吸收能量。例如:III-V半导体GaAs, InP等。
直接带隙半导体的重要性质:1) 直接带隙半导体中载流子的寿命很短;2) 导带电子与价带空穴的复合是直接复合,可以把能量几乎全部以光的形式放出(因为没有声子参与,故也没有把能量交给晶体原子)——发光效率高,这也就是为什么发光器件(量子点)多半采用直接带隙半导体来制作的根本原因。
间接带隙半导体:导带Z小值(导带底)和价带Z大值在k空间中不同位置。形成半满能带不只需要吸收能量,还要改变动量。典型例子如Si, Ge等元素半导体。