等离子清洗是什么？

如果是半导体的等离子清洗一般用CF4+ Ar+O2作为清洗气体，然后等离子体起辉后将腔体清洗30min。这个很猛，用了F离子，
如果要求不高的话，一般用 Ar+O2作为清洗气，等离子体来清洗工件或者 真空墙体内表面。主要利用了Ar+粒子的轰击效应 和 臭氧的 强氧化性来去除表面的油污和杂质物质。等离子清洗对表面附着的大颗粒固体物质如灰尘没什么用。