ITO清洗原则

现在开始采用的是先湿法（乙醇。丙酮）超声清洗过，红外烘干，然后采用干法清洗（紫外臭氧光清洗）以提高ITO表面的功函数。

通常先对ITO 表面用湿法处理，即用洗涤剂清洗，再用乙醇，丙酮及超声波清洗或用有机溶剂的蒸汽洗涤，后用红外灯烘干.

需要使用专门的转头来切割或者使用激光切割。
通常先对ITO 表面用湿法处理，即用洗涤剂清洗，再用乙醇，丙酮及超声波清洗或用有机溶剂的蒸汽洗涤，后用红外灯烘干。洗净后对ITO表面进行活化处理，使ITO 表面层含氧量增加，以提高ITO 表面的功函数，也可以用过氧化氢处理ITO 表面，用比例为水：双氧水：氨水=5：1：1 的混合溶液处理后，使OLED 器件亮度提高一个数量级。因为过氧化氢处理会使ITO 表面过剩的锡含量减少而氧的比例增加，使ITO 表面的功函数增加从而增加空穴注入的几率。