离子束溅射镀膜设备的优缺点是什么? 更适合做什么薄膜材料?

优点：1、靶材粒子能量高（比热蒸发高出1个数量级），所制备膜层更致密，与基板结合力更高；
2、一般备有辅助离子源，可以用来清洗基板，清洗效果好；
3、易于制备熔点高的材料；
4、制备合金膜层，可以保证膜层材料比例与靶材相同；
5、由于装有中和器，也可以用来制备绝缘膜层；
缺点：1、一般镀膜速率较慢，几十埃每秒；
2、离子源清理和中和器灯丝更换较频繁；
3、不适宜制备较大面积薄膜；
除有机材料和易分解的材料，一般都可以用离子束溅射镀膜，氧化物膜层的制备需要辅助通氧。

镀膜速率慢，装片数少。设备成本很高。