什么是真空溅镀，它与真空蒸镀有什么区别?

真空溅镀，是真空溅射镀膜的简称，是一种物理镀膜的方法.
真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。
对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且Z终沉积在基片表面，经历成膜过程，Z终形成薄膜。

鬼知咩?

适合蒸镀，溅镀底部是镀不到的而且侧面很薄。镀完后金属面容易划伤，需要进行表涂！

有一个心形的盒子(装食品用塑胶盒)，现在要把它的外表面镀上金属，但里外交接处不可以有渗透.不知道适合哪种镀法.现在又不知道什么是溅镀.如有哪位知道，请指教指教，Z好是帮忙指出用那种镀法并提供几个供应上.急盼回复!谢谢!