SPS 光刻机 POLOS µ

SPS 光刻机 POLOS μ

主要特征： 
1、写入分辨率低至2 μm
2、可调整的写作领域和具有可互换目标的解决方案
3、与CAD文件或位图图像兼容
4、与g线光刻胶兼容
5、兼容多种基材（硅，玻璃，金属，塑料等）
6、兼容任何样品尺寸达4英寸的晶片
7、相机反馈以进行对准步骤
8、由于没有硬掩模，节省了时间和金钱
9、将设计直接覆盖在样品上的直观对齐方法
10、占地面积小的桌面
11、非常适合微电子，2D材料，微流体，光电，opty或任何其他2D微加工应用的技术

规格参数：

1、光源曝光：435 nm； 对准：525 nm
2、最小特征尺寸：2至23 μm可调
3、对准分辨率：低至1 μm / cm2
4、最大曝光面积：75 x75 mm2
5、基板尺寸：最大4”晶圆
6、系统尺寸：W：（36厘米）； D：（36厘米）; 高：（60厘米）
7、多合一PC：Win 10、24英寸全高清
8、SFTprint软件：机器控制，步进重复，自动剂量测试，缝合，对齐
9、SFTconverter：将标准格式（gdsii，dxf，cif，oas）转换为位图图像。 随附的CAD软件