企业性质一般经销商
入驻年限第5年
Qpol 250 M2双盘手动金相磨抛机概述
Qpol 250 M2双盘手动金相磨抛机,适用于直径200 - 300 mm的工作盘。其强大的速度控制驱动器允许所有工作步骤皆可实施应用。防震塑料內罩,采用粉末涂层的铝制外罩及设备的高标准技术,赋予了其安静、平稳运行的特点及更佳的制备结果。操作简单,安装、维修容易,经济实用,是教学、科研、质量控制等金相实验室的常用机型。
Qpol 250 M2双盘手动金相磨抛机性能
• 双盘研磨抛光机,操作简单,经济、实用
• 可配置8in、10in和12in磨盘,无需工具即可轻松、快速更换磨盘
• 磨盘转向顺时针或逆时针可调,转速可调
• 旋转循环功能(清洁加强)
• 通过取出磨抛盘轻松清洁/冲洗水槽
• 防冲击塑料水槽
• 水槽冲洗管,手动水流电磁阀控制,可全面冲洗
• 具有状态指示的启停功能
• 可与手动加液系统Topas M组合使用
• 铝制外壳,粉末涂层,耐用美观
• 包含防溅挡圈和磨抛盖
• 适用于各种材料金相试样的研磨、抛光
Qpol 250 M2双盘手动金相磨抛机技术参数
磨盘尺寸 | Ø 8in(200mm)-10in(250mm) |
电源 | 200-240V,单相,50Hz |
电机功率 | 1.6kVA |
磨盘转速 | 30-600rpm |
磨盘转向 | 顺时针或逆时针,可调 |
操作方式 | 手动 |
尺寸(W×D×H) | 901×710×265mm |
重量 | 45kg |
Qpol 250 M2双盘手动金相磨抛机订货信息
产品编号 | 产品描述 | |
M5631010 | 双盘手动研磨抛光机Qpol 250 M2 | |
电源:200-240 V,单相,50Hz | ||
Z5631001 | SAPHIR 250 磨抛盘,Ø 200 mm | |
Z5631002 | SAPHIR 250 磨抛盘,Ø 250 mm | |
Z5631003 | SAPHIR 250 压圈,塑料,适配Ø 200 mm工作盘 | |
Z5631004 | SAPHIR 250 压圈,塑料,适配Ø 250 mm工作盘 | |
A5810261 | 废料过滤沉淀槽,双格室45L,H800 mm,可推入系统实验室橱柜 | |
A5810237 | 废料过滤沉淀槽,双格室45L,H900 mm,可推入系统实验室橱柜 | |
A5800496 | 废料过滤沉淀槽,双格室45L,移动式 | |
Z5600008 | 连接套件:1根排水管,1根压力管 | |
*** | 加液系统 TOPAS M |