日本 Nikon尼康LV100ND/LV100DA-U工业显微镜

新的光学系统令 ECLIPSE焕发新风采

ECLIPSE 显微镜机身采用模块化制造，可满足多领域的工业应用，其中包括半导体器件、封装、FPD、电子器件、材料和精密模具制造等。ECLIPSE LV 系列经过不断的发展完善并配备了新的光学系统和功能，可根据观察方法和目的 选择支架装置和照明装置以满足多种观察需求。用户可选择使用电动和手动操控模式以及反射照明专用模式和反射／透射组合照明模式以满足任何应用需求。

CFI60-2 经过改进的光学性能
以独特的高数值孔径和长工作距离设计理念而著称的尼康 CFI60 光学系统
经过进一步改进，具有yi流 的长工作距离、色差校正性能和更轻的重量。

轻松的操作
与数码相机集成 现可使用数码控制装置来检测包括物镜信息在内的显微镜信息，以及对显微镜进行电动操作，以更高效地进行观察和图像拍摄。

观察方法
可支持多种观察方法：明场、暗场、偏光、微分干涉、落射荧光和双光束干涉测量观察功能。此外，LV100DA和LV100DA-U还可提供透射型微分干涉、暗场、偏光和相衬观察功能。

日本尼康Multizoom AZ-C2+ 共聚焦成像系统无论是宏观的观察还是微观的观察都可以获得高品质的共焦图像。锐利的宽视野图像具有无与伦比的信噪比，可将整个胚胎与组织切片完整呈现。此外AZ-C2+结合不同的放大倍率物镜与扫描变倍功能使一部机器即可实现宏观到微观的连续转换。此设备所提供的宏观活体共聚焦扫描成像能力是传统的体式显微镜所无法企及的。