电子束及深紫外光刻胶ma-N 2400系列

德国Micro Resist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶，除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外，还有电子束刻蚀胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶可供选择。

德国Micro Resist 光刻胶

紫外负性光刻胶

紫外正性光刻胶

电子束曝光胶

Micro Resist纳米压印胶

湿法工艺液体

去胶液

显影液

边胶清洗液