RTP-1200小型快速退火炉(RTA)

RTP-1200小型真空快速退火炉(RTP/RTA)为韩国进口的快速退火炉。

该仪器：尺寸小巧，使用风冷、无须水冷，电流要求不高(3安培)，性价比高，使用方便，非常适合科研院所的科研使用。

技术规格：

- 加热方式：红外卤素钨灯，600W；
- 卤素红外灯数量：4支；

- 最快升温速率：100℃/秒；

- 最快降温速率：50秒(1000℃ → 400℃)；

- 最高温度：1200℃；

- 温度精度：+/-0.3℃

- 最大样品尺寸：20 x 20mm；

- 退火环境：真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢气等)；

- 真空泵及极限压力：机械泵，10-3Torr水平(选配)；

- 电压：220 V，单相；

- 仪器尺寸：400*300*450mm (W*D*H)；

- 质量：净重30Kg；

仪器特点：

- 可在真空/不同气氛/空气不同环境下，对样品进行快速热处理；

- 温控精度高；

- 适合高校或研究所科研使用；

- 无须额外的冷却系统；

- 紧凑的台式设计；

- 仪器操作方便，样片装取容易；

- 价格合理，高性价比；

应用领域：

- 快速热退火 (Rapid Thermal Annea领,RTA);

- 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

- 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

- 硅化 (Silicidation);

- 扩散 (Diffusion);

- 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annea领);

- 离子注入后退火 (Implant Annea领);

- 电极合金化 (Contact Alloying);

- 晶化和致密化 (Crystallization and Densification);

- 合金熔点分析；

- 薄膜沉积；

等等…