德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机Quantum X

Printing technology：

Two-Photon Grayscale Lithography (2GL)

Minimum XY feature size：

160 nm typical; 200 nm specified*

Finest XY resolution：

400 nm typical; 500 nm specified*

Finest vertical steps：

10 nm, quasi-continuous topographies possible

Minimum surface roughness Ra：

≤ 10 nm*

Scan speed：

≤ 250 mm/s*

Area printing speed：

3 mm²/h typical for diffractive optical elements