上海伯东KRI 考夫曼离子源 RPICP 200

KRI Ion Source RFICP 200, Gridded RF Ion Source

KRI Ion Source RFICP 200 是一款大型的有栅极离子源，离子能量范围 100~1000 eV，非常适合于典型的离子束辅助沉积和离子束刻蚀。特有的大面积束源和高密度使它能够满足一些极端的工艺并获得高的均匀性。因此 RFICP 200 被广泛应用在大型离子辅助的盒式镀膜机和较大尺寸 wafer的离子刻蚀系统。

KRI Ion Source 有栅极离子源RFICP 200 产品参数

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗小姐                                   台湾伯东: 王小姐
T: +86-21-5046-3511 ext 108              T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1322                            F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 ( 微信同号 )      M: +886-939-653-958
qq: 2821409400 
www.hakuto-china.cn                        www.hakuto-vacuum.com.tw

现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶小姐 1391-883-7267
上海伯东版权所有, 翻拷必究！