超高真空残余气体分析四极质谱仪

仪器简介英国Hiden公司的HAL 201 RC超高真空残余气体分析四极质谱仪专为检测超高真空容器中的存在组分而设计，针对真空诊断进行精确的分析。

离子源为镀金离子源，适合应用在总压小于5 x 10-10mbar的领域，其系统与EPIC离子/分子分析质谱仪完全兼容。

主要特点：镀金离子源，以减少离子源脱气

氧化物涂层双铱丝的离子源

双法拉第/ Channeltron电子倍增器检测器

技术规格：质量数范围： 200，300 amu

扫描速度： 100amu/s

最小扫描步阶：0.01amu

灵敏度： 0.1 ppm～1ppm

稳定性： 24h以上，峰高变化小于±0.5%

最小检测分压：5 x 10^-14 mbar

最大工作压力：1 x 10^-4 mbar