找仪器

FPS 6100多功能掩膜版光刻机

深圳市蓝星宇电子科技有限公司

企业性质生产商

入驻年限第6年

营业执照已审核
同类产品德国海德堡 Heidelberg (17件)

使多功能光掩模制造

具有无与伦比的灵活性

FPS6100传递的画面质量和生产效率有所提高,符合当下更为先进的多功能市场细分的要求。

许多应用和生产环境可以设置FPS6100:电子包装、触摸屏、滤色镜、精细的金属膜片、3D模具等等。这意味着你可以充分利用现行产品体系,同时瞄准新的商机。

与之前的FPS5500相比,FPS6100能够提供更高的曝光速度以及更优质的画面质量。如果您的FPS系统是老一代的,您可以将它升级至FPS6100系列,不仅节省成本同时提高经营的能力和质量。

主要优势:

·         生产效率提高,曝光速度更快,减少辅助操作时间

·         画面质量更优质,更小的成像单位

·         6种曝光水平和干板曝光的平台可扩展性

·         FPS5100/5300/5500可升级


 

技术指标

 

 

FPS6100

Lvl 80 

Lvl 60

Lvl 40 

曝光速度[mm²/min]

525

1250

2600

最小L/S 溶解(pitch/2

0.75

1.2

2.0

CD均匀性3σ [nm]

30

40

60

套合3σ[nm]

70

85

100

最大掩膜尺寸 [mm]

813x813*

 

FPS6100

Lvl 25

Lvl 20

Lvl 15

曝光速度[mm²/min]

6000

8000

12000

最小L/S 溶解(pitch/2

3.5

5.0

7.0

CD均匀性3σ [nm]

80

100

200

套合3σ[nm]

120

140

160

最大掩膜尺寸 [mm]

    813x813*

 

FPS6100E

Lvl 25

Lvl 20

Lvl 15 

曝光速度[mm²/min]

5000

8000

12000

最小L/S 溶解(pitch/2

6.0

8.0

12.0

CD均匀性3σ [nm]

600

700

900

套合3σ[nm]

120

140

160

最大掩膜尺寸 [mm]

    813x813*


*
 掩膜可伸展尺寸到达可选择的1100×1100  900×1200

 

技术指标

 

 

FPS6100

Lvl 80 

Lvl 60

Lvl 40 

曝光速度[mm²/min]

525

1250

2600

最小L/S 溶解(pitch/2

0.75

1.2

2.0

CD均匀性3σ [nm]

30

40

60

套合3σ[nm]

70

85

100

最大掩膜尺寸 [mm]

    813x813*

 

FPS6100

Lvl 25

Lvl 20

Lvl 15

曝光速度[mm²/min]

6000

8000

12000

最小L/S 溶解(pitch/2

3.5

5.0

7.0

CD均匀性3σ [nm]

80

100

200

套合3σ[nm]

120

140

160

最大掩膜尺寸 [mm]

    813x813*

 

FPS6100E

Lvl 25

Lvl 20

Lvl 15 

曝光速度[mm²/min]

5000

8000

12000

最小L/S 溶解(pitch/2

6.0

8.0

12.0

CD均匀性3σ [nm]

600

700

900

套合3σ[nm]

120

140

160

最大掩膜尺寸 [mm]

    813x813*


*
 掩膜可伸展尺寸到达可选择的1100×1100  900×1200


    热线电话 在线咨询