全自动原子层沉积系统(ALD)

Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学，05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止，Veeco在ALD设备已有15年多的经验，全球已安装五百多台ALD设备。

方式: Thermal batch ALD

优势: 大批量热ALD镀膜，可靠成熟，设计灵活，易于使用，并具有许多操作界面，许多内置安全功能

薄膜: 高达370 mm x 470 mm (Gen 2.5 Panels) / 100mm 晶片 - 240 to 360 / 150mm 晶片 - 80 to 160 / 200mm 晶片 - 80 to 100 / 300 mm 晶片 - up to 40 / 其它3D 对象自定义支架

设备尺寸: 900 mm x 1370 mm x 1700 mm

功率: 208 VAC 3 Phase, 8500 W (包含泵)

最高温度: 可达285°C

沉积均一性: Al2O3 晶片<1.5% / Al2O3批量<1%

前驱体源瓶: 3.1 l 源瓶或 600 ml

载气/排气: N2 or Ar MFC flow control

原位分析选项: 臭氧发生器, LVPD,集成手套箱, 半自动负载

自动负载, SECS/GEM 界面