Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪

产品简介

Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪

Q150V Plus为高真空镀膜应用做了优化设计，限真空度可达1x10-6mbar。结合潘宁规和皮拉尼规的使用，可以使易被氧化的金属形成超小尺寸的颗粒，以实现高分辨率成像。高真空腔室也可以将氮气，氧气和水完全除去，避免在溅射过程中因化学反应导致杂质和缺陷形成。较低的溅射速率还可获得高纯度和高密度的无定型碳膜。