300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF

等离子源

一个300W，13.5MHz的射频电源安装在移动柜内

(点击图片查看详细资料）

磁控溅射头

• 一个2英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接

• 靶材尺寸:直径为50mm,最大厚度6.35mm

• 一个快速挡板安装在法兰上（手动操作，见图左3）

• 溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机）

• 同时可选配1英寸溅射头
  

真空腔体

• 真空腔体：160mmODx150mmIDx250mmH，采用高纯石英制作

• 密封法兰:直径为165mm.采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封

• 一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体

• 真空度：10-3Torr（采用双极旋片真空泵）

• 10-5torr（采涡旋分子泵）

载样台

• 载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热

• 载样台尺寸：直径50mm（最大可放置2英寸的基片）

• 旋转速度：1-20rpm

• 样品的最高加热温度为700℃，(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃

• 控温精度+/-10℃

• 

真空泵

我公司有多种真空泵可选，请点击图片，或是致电我公司销售

薄膜测厚仪

• 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监控薄膜的厚度，分辨率为0.10?

• LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据
  

外形尺寸

质保和质量认证

• 一年质保期，终生维护

• CE认证

使用注意事项

• 这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度

• 为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95%N2对真空腔体清洗2-3次，可有效减少真空腔体中的氧含量

• 请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10-100ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内