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Si+SiO2薄膜

合肥科晶材料技术有限公司

企业性质

入驻年限第9年

营业执照
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产品名称:

Si+SiO2薄膜

产品简介:


技术参数:

常规晶向:<100>,<111>,掺杂类型:N型掺杂或者P型掺杂制作方法:干法或湿法薄膜厚度:常规厚度300nmSiO2

常规尺寸:

dia4"x0.5mm;dia2"x0.5mm;单面氧化或者双面氧化

可按照客户要求加工氧化层厚度:50nm~1um

标准包装:

1000级超净室100级超净袋单片盒或25片插盒封装