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FEI “Q系列”扫描电子显微镜

广州贝拓科学技术有限公司

企业性质生产商

入驻年限第15年

营业执照已审核
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对于失效分析、质量控制和材料表征而言、Q25是最经济、最GX的高分辨成像和分析应用的解决方案。在设计上侧重易用性、Q25可以让用户迅速得到他们所需的数据。

为应对不导电样品、Q25提供了低真空模式下的高性能、消除了对专用的样品制备步骤或者附加的样品镀膜仪的需求。Q25样品室的设计和真空系统能够快速更换样品、允许日常GX、快速检测样品。

为满足客户对大样品或块状样品的要求、Q45提供了更大的真空样品室和100mm的样品台行程。另外、Q45加上了环境扫描(ESEM)模式、扩展了SEM的成像和分析功能到加热、含水或放气的样品。

? 简单易用,即使是新手利用直观的软件可实现GX操作。
? 利用稳定的高束流(上至2 μA)电子束可以迅速获得精确的分析结果。
?快速轻松表征导电和非导电样品
? 支持可选的分析功能。利用独有的多级穿过透镜的真空系统在高真空和低真空下使导电样品和不导电样品的精确EDS分析成为可能。
? Q45 SEM: 采用为ESEM选配的帕尔贴冷台可在样品的自然含水状态下完成样品的动态原位分析。


分辨率加速
电压
探针电流 样品台放大率试件室尺寸
Q25 SEM

High vacuum

  • 3.0 nm at 30 kV (SE)

  • 4.0 nm at 30 kV (BSE)*

  • 8.0 nm at 3 kV (SE)

Low vacuum

  • 3.0 nm at 30 kV (SE)

  • 4.0 nm at 30k V (BSE)*

  • 10 nm at 3 kV (SE)

*optional

200 V - 30 kVup to 2 μA, continuously adjusted13 to 1000000x284 mm size left to right
Q45 SEM

High vacuum

  • 3.0 nm at 30 kV (SE)

  • 4.0 nm at 30 kV (BSE)*

  • 8.0 nm at 3 kV (SE)

High vacuum with beam deceleration option 7.0 nm at 3 kV(BD mode* + vCD*)

Low vacuum

  • 3.0 nm at 30 kV (SE)

  • 4.0 nm at 30k V (BSE)*

  • 10 nm at 3 kV (SE)

Extended vacuum mode (ESEM)
3.0 nm at 30 kV (SE)

*optional

200 V - 30 kVup to 2 μA, continuously adjusted6 to 1000000x284 mm size left to right