EMPro 多入射角激光椭偏仪

品牌：北京赛凡
型号：EMPro
产地：北京
供应商报价：面议
产品分类：椭偏仪/椭圆偏振仪

企业性质

入驻年限第4年

营业执照

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详细介绍

EMPro是针对高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。
EMPro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量快速变化的纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。
EMPro采用了量拓科技多项ZL技术。

特点：

原子层量级的极高灵敏度
百毫秒量级的快速测量
简单方便的仪器操作

应用：

EMPro适合于高精度要求的科研和工业产品环境中的新品研发或质量控制。EMPro可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k。EMPro可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁介质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。可应用的块状材料领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。

技术指标：

项目	技术指标
仪器型号	EMPro31
激光波长	632.8nm (He-Ne Laser)
（^1）膜层厚度精度	0.01nm (对于平面Si基底上100nm的SiO₂膜层)
（^1）折射率精度	1x10^-4(对于Si基底上100nm的SiO₂膜层)
单次测量时间	与测量设置相关，典型0.6s
结构	PSCA（Δ在0°或180°附近时也具有极高的准确度）
激光光束直径	1mm
入射角度	40°-90°可手动调节，步进5°
样品方位调整	Z轴高度调节：±6.5mm 二维俯仰调节：±4° 样品对准：光学自准直和显微对准系统
样品台尺寸	平面样品直径可达Φ170mm
最大的膜层范围	透明薄膜可达4000nm 吸收薄膜则与材料性质相关
最大外形尺寸	887 x 332 x 552mm (入射角为90时)
仪器重量（净重）	25Kg
选配件	水平XY轴调节平移台真空吸附泵
软件	ETEM软件：中英文界面可选； l多个预设项目供快捷操作使用； l单角度测量/多角度测量操作和数据拟合；方便的数据显示、编辑和输出丰富的模型和材料数据库支持

注：(1)精度：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量25次所计算的标准差。

性能保证：

高稳定性的He-Ne激光光源、先进的采样方法以及低噪声探测技术，保证了高稳定性和高准确度
高精度的光学自准直系统，保证了快速、高精度的样品方位对准
稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合先进的采样技术，保证了快速、稳定测量
分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和厚度的测量
一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间
一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用

技术资料

EMPro 多入射角激光椭偏仪产品样册