托托科技无掩膜光刻机TTT-07-UV Litho-ACA

TTT-07-UV Litho-ACA无掩膜版紫外光刻机的特征尺寸为1 µm（光刻镜头B），高性能无铁芯直线驱动电机保证了套刻精度和高达6英寸画幅的图形拼接，而基于空间光调制器的光刻技术，使得其在光学掩膜版设计上有着得天独厚的优势。高效、灵活、高分辨率和高套刻精度等众多优点，必将使其成为二维材料、电输运测试，光电测试、太赫兹器件和毫米波器件等领域的科研利器。

【产品亮点】

步进式光刻

多镜头电动切换

灵活性

6英寸加工幅面

特征尺寸0.8 μm

【应用示例】

微流道芯片

微纳结构曝光

电输运测试/光电测试器件

二维材料的电极搭建

太赫兹/毫米波器件制备

光学掩膜版的制作

【系统升级选项】

激光光源

主动隔振平台

3D重构观测

手套箱内集成 

【关联技术】 

以下产品与紫外光刻机采用关联技术，应特殊要求，可提供解决方案

红外3D打印

PCB曝光及其他大面积低精度光刻，单次150毫米 *150 毫米 

【安装需求】

温度：20-40℃

湿度：RH<60%

电源：220V，50Hz