托托科技无掩膜光刻机TTT-07-UV Litho-ACA Pro

在电子通信行业蓬勃发展的大背景下，集成电路产业迎来了以光刻技术为核心技术的爆炸式需求。利用紫外光源对紫外敏感的光刻胶进行空间选择性的曝光，进而将设计好电路版图转移到硅片上形成集成电路，这一工艺就是紫外光刻技术。实现光刻工艺的设备一般称之为光刻机，或为曝光机。光刻机的分辨率和套刻精度直接决定了所制造的集成电路的集成度，也成为了评价光刻设备品质的关键指标。

光刻机作为生产大规模集成电路的核心设备，有接触式光刻机、接近式光刻机、投影式光刻机等类型。而这些类型的常规光刻机需要定制价格高昂的光学掩膜版，同时，任何设计上的变动都需要掩膜版重新制造也使得它有着灵活性差的劣势。激光直写设备具备很高的灵活性，且可以达到较高的精度，但逐行扫描的模式使得曝光效率较低。出于同时追求高精度、高效率、强灵活性、低损耗，在投影式光刻机基础上，无掩膜版紫外光刻机应运而生。近些年，基于空间光调制器（DMD/DLP）的技术在紫外曝光方面获得了长足的进展。

TTT-07-UV Litho-ACA Pro无掩膜版紫外光刻机的特征尺寸为0.6 µm（光刻镜头C），高性能无铁芯直线驱动电机保证了套刻精度和高达6英寸画幅的图形拼接，而基于空间光调制器的光刻技术，使得其在光学掩膜版设计上有着得天独厚的优势。高效、灵活、高分辨率和高套刻精度等众多优点，必将使其成为二维材料、电输运测试，光电测试、太赫兹器件和毫米波器件等领域的科研利器。

【产品亮点】

步进式光刻

更高的精度

激光主动对焦

6 英寸加工幅面

特征尺寸0.4 μm

【应用示例】

微流道芯片

微纳结构曝光

电输运测试/光电测试器件
二维材料的电极搭建

太赫兹/毫米波器件制备

光学掩膜版的制作

【系统升级选项】

激光光源

主动隔振平台

3D重构观测

手套箱内集成

【安装需求】

温度：20-40℃

湿度：RH<60%
电源：220V，50Hz