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中频电源表面清洗离子清洗机

郑州科探仪器设备有限公司

企业性质生产商

入驻年限第2年

营业执照已审核
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中频电源表面清洗离子清洗机 核心参数
自动化: 自动
样品腔尺寸: 内径110MMX深度220MM
样品腔容积: 2L
射频功率: 150W
频率: 13.56MHz

plasma离子清洗机射频电源

等离子体清洗的机理,主要是依靠等离子体中活性粒子的"活化作用"达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。等离子体清洗技术的特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。



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plasma离子清洗机射频电源


供电电源

AC220V(AC110V可选)

工作电流

整机工作电流不大于3.5安(不含真空泵)

射频电源功率

150W

射频频率

13.56MHz

频率偏移量

<0.2MHz

特性阻抗

50欧姆,手动匹配

耦合方式

电容耦合

真空度

≤50Pa

腔体材质

高纯石英

腔体容积

2L(内径110MMX深度220MM)

观察窗内径

Φ50

气体流量

0—50ml/min(其他量程可选)

过程控制

过程手动控制

清洗时间

手动开关

开盖方式

铰链侧开式法兰

外形尺寸

450x450x360mm

重量

23Kg

真空室温度

小于65°C

冷却方式

强制风冷

标配

KF16真空管1米,kf16卡箍2个,不锈钢网匣1个,电源线一根,说明书一本。