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光谱椭偏仪

沈阳科晶自动化设备有限公司

企业性质生产商

入驻年限第10年

营业执照已审核
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SE-L光谱椭偏仪是一款全自动高精度光谱椭偏仪,集众多科技ZL技术,采用行业前沿创新技术,配置全自动测量模块。通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析。SE-L光谱椭偏仪广泛应用于半导体薄膜结构:介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、PZT膜,激光二极管GaN和AlGaN、透明的电子器件、平板显示、光伏太阳能、功能性涂料、生物和化学工程、块状材料分析等领域。1、高精度自动测量光学椭偏测量解决方案
2、全自动变角、调焦等控制平台,一键快速测量
3、软件交互式界面配合辅助向导式设计,易上手、操作便捷
4、丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力
5、采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm)
6、高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置,实现Psi/Delta光谱数据高速采集
7、全自动椭偏测量技术,基于行业领先电机控制技术,全自动调整测量角度,高精度控制样件台,实现样件快速自动对准找焦
8、颐光ZL技术确保在宽光谱范围内,提供优质稳定的各波段光谱
9、数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料

产品型号

SE-L光谱椭偏仪

技术参数

1、自动化程度:自动变角

2、应用定位:自动型

3、基本功能:Psi/Delta、N/C/S、R/T等光谱

4、分析光谱:380-1000nm(可扩至193-2500nm)

5、单次测量时间:0.5-5s

6、重复性测量精度:0.01nm

7、光斑大小:大光斑2-3mm,微光斑200um

8、入射角调节方式:自动变角

9、入射角范围:45-90°

10、找焦方式:自动找焦

11、Mapping行程:支持100x100mm(可选配)

12、支持样件尺寸:ZD至200mm

可选配置

波段选择

V:380-1000nm

UV:245-1000nm

XN:210-1650nm

DN+:193-2500nm

角度选择

自动:45-90°

其他选择

Mapping选择:100×100mm(供参考,按需定制)

温控台:室温一600℃(供参考,按需定制)

可选配件

1

温控台


2

Mapping扩展模块


3

真空泵


4

透射吸附组件


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