全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪

ME-L是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪，凝聚了科研团队在椭偏技术多年的投入，其采用行业前沿的创新技术，包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于半导体薄膜结构，半导体周期性纳米结构，新材料，新物理现象研究，平板显示，光伏太阳能，功能性涂料，生物和化学工程，块状材料分析以及各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。
双旋转补偿器(DRC)配置一次测量全部穆勒矩阵16个元素；配置自动变角器、五维样件控制平台等优质硬件模块，软件交互式界面配合辅助向导式设计，易上手、操作便捷；丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力。1、采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm)
2、可实现穆勒矩阵数据处理，测量信息量更大，测量速度快、数据更加JZ
3、基于双旋转补偿器配置，可一次测量获得全部穆勒矩阵的16个元素，相对传统光谱椭偏仪可获取更加丰富全面的测量信息
4、颐光ZL技术确保在宽光谱范围内，提供优质稳定的各波段光谱
5、数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料
6、集成对纳米光栅的分析，可同时测量分析纳米结构周期、线宽、线高、侧壁角、粗糙度等几何形貌信