等离子三靶溅射仪

GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极（DC）直流溅射原理（直流二极溅射镀膜是指在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应，使得靶材原子或分子从固体表面射出，在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物理 气相沉积（PVD）制备薄膜技术的一种。）设计而成的简单、可靠、经济的镀膜设备。GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪特别之处是在一个真空室内安装了三个靶，旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。该设备体积小，节省实验室空间，操作简单，尤其适合实验室使用。1、设有真空表、溅射电流表，可实时监控工作状态。
2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀，控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体，以获得ZJ镀膜效果。
3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计，可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。
4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。
5、根据电场中气体电离特性，采用大容量溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。
6、已通过CE认证。